2013年上海电子展
2013年11月13-15日，2013年亚洲电子展（AEES）暨第82届中国电子展（CEF）在上海新国际博览中心举办。享有亚洲地区最具代表性美誉的AEES以及被称为“中国电子第一大展”的CEF在60,000平米的展馆里为1,300多家展商搭建一座完美的展示交流平台。中国国际半导体博览会（2013 IC CHINA）于同期召开。 &n...
查看详情 → 2013-11-16 浏览：202
2013年11月13-15日，2013年亚洲电子展（AEES）暨第82届中国电子展（CEF）在上海新国际博览中心举办。享有亚洲地区最具代表性美誉的AEES以及被称为“中国电子第一大展”的CEF在60,000平米的展馆里为1,300多家展商搭建一座完美的展示交流平台。中国国际半导体博览会（2013 IC CHINA）于同期召开。 &n...
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斗转星移九载，华光窑炉迎来了九岁生日。过去九年，华光人励精图治，不懈努力，从一个名不见经传的小厂，成为了咸阳市高新技术企业，这一结果，让每个华光人都感慨万千。 回想过去，企业刚刚起步，资金不足，品种不多，人员不稳定，企业举步维艰，华光人没有被困难...
查看详情 → 2013-08-18 浏览：235
近期，由我公司设计制造的网带式气氛保护钎焊炉成功通过用户验收。该设备用于在氮氢混合气保护气氛条件下对工件的连续性钎焊处理。设备具有结构简单，性能稳定可靠，炉温及气氛均匀，操作维护简便等优点。设备主要参数：最高温度：1000-1200℃。工作温度：850-900℃。控温精度：±2℃（以仪表显示为准）。装机功率：15 kW。网带运行速度：30～150mm/min，连续无级可调。网带宽度：100mm。氮...
查看详情 → 2013-08-18 浏览：198
近期，由我司设计生产的升降式真空气氛炉用户初验合格。该设备用于电子、陶瓷、稀土化工等行业产品的在氧化气氛、惰性气体、还原性气体等多种气氛保护条件下高温烧成。设备主要技术参数：最大功率：48KW，保温功率：22KW。电源：380V/220 V±10%，50HZ。最高设计温度：1400℃。长期使用温度：1320℃。炉膛尺寸（mm）：φ760×H645；工作区域：φ210～φ590环形空间，可方置产品高...
查看详情 → 2013-08-13 浏览：239
11月初，由我公司设计生产的氮气保护网带式烧端炉用户初验合格。该设备主要用于电池粉体材料的煅烧热处理。设备主要技术参数：炉膛尺寸：17000×340×200mm(L×W×H)。最高温度：900℃。网带宽度：315mm。运行速度：300-900mm/h连续可调。控温组数：11个温区，11点控温。加热方式：电阻丝上下水平加热。气路配置质量流量计控制，带有通信接口。出料采用光电开关对射检测。配置有超声波...
查看详情 → 2013-08-13 浏览：251